赫爾槽
電鍍試驗時,為了研究鍍液性能、鍍液中各成分對鍍層質(zhì)量的影響以及電鍍時合適的電流密度等所采用的一種直角梯形槽。槽體通常用有機(jī)玻璃板粘合而成。陰、陽極沿梯形的兩腰放置,一般將陽極放在直角腰的一側(cè)。陰極表面各部分的電流密度隨其與陽極間的距離而變,因此可在同一塊陰極片上觀察不同電流密度下的鍍層情況。可用于較快地選擇工藝條件或判斷故障原因。
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赫爾槽
電鍍試驗時,為了研究鍍液性能、鍍液中各成分對鍍層質(zhì)量的影響以及電鍍時合適的電流密度等所采用的一種直角梯形槽。槽體通常用有機(jī)玻璃板粘合而成。陰、陽極沿梯形的兩腰放置,一般將陽極放在直角腰的一側(cè)。陰極表面各部分的電流密度隨其與陽極間的距離而變,因此可在同一塊陰極片上觀察不同電流密度下的鍍層情況。可用于較快地選擇工藝條件或判斷故障原因。