等離子刻蝕
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等離子刻蝕　　　

俗稱(chēng)“干法刻蝕”。在光刻工藝中利用高頻輝光放電形成的化學(xué)活性游離基與被刻蝕材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的一種選擇性刻蝕工藝。與化學(xué)腐蝕液的濕法刻蝕工藝相比，具有干燥、清潔、工藝過(guò)程簡(jiǎn)單、尺寸分辨率高和公差小等優(yōu)點(diǎn)。已在半導(dǎo)體工藝中廣泛采用。