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基于過曝連通域投影強(qiáng)度自適應(yīng)分布的三維成像(特邀)

激光與光電子學(xué)進(jìn)展 頁數(shù): 10 2024-10-25
摘要: 針對高反光表面三維成像,提出了一種簡單、穩(wěn)健的自適應(yīng)條紋投影方法。該方法首先通過投影白色均勻圖案幫助確定過曝光區(qū)域,并提取該區(qū)域的邊界;然后將邊界映射到投影儀像素坐標(biāo)系,并降低該區(qū)域內(nèi)部的像素強(qiáng)度,重新生成一組亮度分布適應(yīng)樣品亮度分布的條紋圖;最后迭代重復(fù)上述步驟,直至所采集的圖中無過曝光區(qū)域。與以往采用多次曝光、自適應(yīng)投影、需要捕獲大量條紋圖像、操作繁瑣、計算復(fù)雜的成像方法相... (共10頁)

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