鉭硅復(fù)合介質(zhì)薄膜皮秒脈沖激光刻蝕機理研究
應(yīng)用激光
頁數(shù)： 11 2024-11-25
摘要： 針對鉭硅復(fù)合介質(zhì)薄膜表面精密刻槽需求，運用532 nm皮秒激光在鉭硅復(fù)合介質(zhì)薄膜表面進行刻蝕，利用光學(xué)顯微鏡、掃描電子顯微鏡、激光共聚焦顯微鏡和能譜儀分別對激光刻蝕后組織的顯微形貌、元素成分進行分析。通過建立三維燒蝕模型對激光與鉭硅復(fù)合介質(zhì)薄膜作用的溫度場進行分析。結(jié)果表明，當(dāng)激光能量密度為3.24 J/cm~2時，可以在不損傷二氧化硅介質(zhì)薄膜和基材的情況下將氧化鉭介質(zhì)薄膜有效... （共11頁）
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