雙面化學(xué)機(jī)械拋光工藝中拋光工況優(yōu)化

摘要： 在雙面化學(xué)機(jī)械拋光過程中，晶圓與拋光墊之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)狀態(tài)是影響晶圓表面加工質(zhì)量，尤其是全局平坦度的關(guān)鍵因素。為了提高在雙面化學(xué)機(jī)械拋光過程中晶圓表面全局平坦度，在雙面化學(xué)機(jī)械拋光基本尺寸結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上，構(gòu)建了數(shù)學(xué)模型，并以速度平方代替速度對(duì)數(shù)學(xué)模型進(jìn)行了有效的簡化。然后，利用Python軟件對(duì)晶圓相對(duì)上、下拋光墊的運(yùn)動(dòng)狀態(tài)進(jìn)行仿真模擬，引入變量β來量化晶圓表面全局平坦度。仿真結(jié)果... （共10頁）