應(yīng)用于高密度多層光存儲的聚合物基存儲介質(zhì)

摘要： 飛秒微爆多層光存儲是一種新型光存儲技術(shù)，它通過在介質(zhì)內(nèi)部記錄多層數(shù)據(jù)，成倍地?cái)U(kuò)充了光盤容量極限，有望解決傳統(tǒng)光盤容量過低的問題。但由于飛秒微爆多層光存儲信息記錄過程受到多種材料因素的共同影響，導(dǎo)致長期缺乏介質(zhì)材料選擇的理論依據(jù)。文中選擇誤碼率作為光存儲性能的關(guān)鍵指標(biāo)，測試對比了不同光學(xué)樹脂的光存儲性能。采用相關(guān)系數(shù)量化了材料的力學(xué)性質(zhì)、熱性質(zhì)、光學(xué)性質(zhì)、介電常數(shù)和高分子鏈結(jié)構(gòu)與... （共11頁）