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熔石英元件磁性復(fù)合流體拋光去除特性研究

紅外與激光工程 頁數(shù)： 12 2024-07-25
摘要： 基于磁性復(fù)合流體(Magnetic Compound Fluid,MCF)拋光技術(shù)開展了熔石英元件拋光工藝研究，對(duì)比了傳統(tǒng)MCF和超聲輔助MCF(以下簡稱UMCF)拋光對(duì)熔石英材料去除特性的影響，探究了不同拋光時(shí)間下MCF和UMCF拋光對(duì)熔石英材料去除量/去除率和表面粗糙度的影響，并構(gòu)建了與拋光應(yīng)力和拋光時(shí)間有關(guān)的材料去除率模型。研究結(jié)果表明，相較于傳統(tǒng)MCF,UMCF在提高材...

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