變跡曝光寫(xiě)制技術(shù)是指通過(guò)控制激光的輸出功率以及曝光區(qū)域(纖芯或包層)的掃描方式,實(shí)現(xiàn)對(duì)寫(xiě)制區(qū)域折射率分布的包絡(luò)改變。該技術(shù)很適用于制作諸如切趾型、Tapered型等非均勻光纖光柵,但曝光光束的輸出功率及掃描速率須精確調(diào) (共 343 字) [閱讀本文] >>
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 變跡曝光寫(xiě)制技術(shù)是指通過(guò)控制激光的輸出功率以及曝光區(qū)域(纖芯或包層)的掃描方式,實(shí)現(xiàn)對(duì)寫(xiě)制區(qū)域折射率分布的包絡(luò)改變。該技術(shù)很適用于制作諸如切趾型、Tapered型等非均勻光纖光柵,但曝光光束的輸出功率及掃描速率須精確調(diào) (共 343 字) [閱讀本文] >>