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 相對無壓力印模與傳統(tǒng)印模比較:采用相對無壓力印模方法制取的印模,黏膜位置沒有受到過大壓力,印模邊緣形態(tài)與義齒最終基托邊緣形態(tài)接近。可見頰棚區(qū)形態(tài)自然,沒有過度加壓現象(圖3-61①)。頰肌下方的纖維組織在壓力下可以有 (共 253 字) [閱讀本文] >>