熒光光譜儀

　　主要用途

　　1.熒光激發(fā)光譜和熒光發(fā)射光譜

　　2.同步熒光（波長(zhǎng)和能量）掃描光譜

　　3.3D（Ex Em Intensity)

　　4.Time Base和CWA(固定波長(zhǎng)單點(diǎn)測(cè)量）

　　5.熒光壽命測(cè)量，包括壽命分辨及時(shí)間分辨

　　6.計(jì)算機(jī)采集光譜數(shù)據(jù)和處理數(shù)據(jù)（Datamax和Gram32)

　　類(lèi)別 指標(biāo)

　　儀器類(lèi)別： 03030429 /儀器儀表 /成份分析儀器 /X熒光譜儀

　　指標(biāo)信息：

　　激發(fā)光源 Xe 450W

　　激發(fā)單色儀：4nm/mm，200nm～700nm

　　發(fā)射單色儀：雙色單儀，2nm/mm，300～1000nm

　　光譜測(cè)量范圍：240nm～850nm

　　靈敏度：水喇曼信噪比4000：1（397nm/5nm bandpass)

　　壽命響應(yīng)范圍：10ps～10μs

　　新型型號(hào)

　　x射線熒光光譜儀：

　　主要用途： 儀器是較新型X射線熒光光譜儀，具有重現(xiàn)性好，測(cè)量速度快，靈敏度高的特點(diǎn)。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對(duì)象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。無(wú)標(biāo)半定量方法可以對(duì)各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結(jié)果，結(jié)果準(zhǔn)確度對(duì)某些樣品可以接近定量水平，分析時(shí)間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。測(cè)量樣品的最大尺寸要求為直徑51mm，高40mm.

　　儀器類(lèi)別： 0303040903 /儀器儀表 /成份分析儀器 /熒光光度計(jì)

　　指標(biāo)信息： 1.發(fā)射源是Rh靶X光管，最大電流125mA，電壓60kV，最大功率3kW 2.儀器在真空條件下工作，真空度<13pascals 3.5塊分析晶體，可以分析元素周期表F～U之間所有元素，含量范圍是ppm～100% 4.分析軟件是Philips公司（現(xiàn)為PANalytical）最新版軟件，既可作半定量，也可定量分析。精密度：在計(jì)算率N=1483870時(shí)， RSD=0.08% 穩(wěn)定性計(jì)算率Nmax=6134524，Nmin=6115920，N平均=6125704，相對(duì)誤差為0.03%

　　附件信息： 循環(huán)水致冷單元，計(jì)算機(jī) P10氣體瓶空氣壓縮機(jī)

　　應(yīng)用對(duì)象

　　分析對(duì)象主要有各種磁性材料（NdFeB、SmCo合金、FeTbDy）、鈦鎳記憶合金、混合稀土分量、貴金屬飾品和合金等，以及各種形態(tài)樣品的無(wú)標(biāo)半定量分析，對(duì)于均勻的顆粒度較小的粉末或合金，結(jié)果接近于定量分析的準(zhǔn)確度。X熒光分析快速，某些樣品當(dāng)天就可以得到分析結(jié)果。適合課題研究和生產(chǎn)監(jiān)控。